धूमिल सिलिका कोलाइडल सिलिका

सीलेंट और चिपकने वाले महत्वपूर्ण उत्पाद हैं जिनका व्यापक रूप से उत्पादन और जीवन में उपयोग किया जाता है। इनका व्यापक रूप से निर्माण, परिवहन, इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों और घटकों आदि के क्षेत्र में उपयोग किया जाता है।चिपकने वाला और सीलेंट संशोधन के लिए फ्यूमेड सिलिका पसंदीदा सामग्री है। सिलिकॉन सीलेंट और चिपकने वाले पदार्थों में फ्यूमेड सिलिका जोड़ने से बॉन्डिंग ताकत में काफी वृद्धि हो सकती है और मुक्त प्रवाह सुनिश्चित हो सकता है, इलाज के दौरान फटने और लटकने से रोका जा सकता है, टूटने, डेंटिंग, पारदर्शिता बनाए रखने, मजबूत करने, एंटी-कतरनी और अन्य भूमिकाएं निभाई जा सकती हैं। तंत्र तब होता है जब इसे सीलेंट और चिपकने वाले में फैलाया जाता है, सिलिका हाइड्रॉक्सिल हाइड्रोजन बॉन्डिंग की सतह के माध्यम से विभिन्न कण, एक सिलिका समुच्चय नेटवर्क का निर्माण करते हैं, ताकि सिस्टम की तरलता सीमित हो, चिपचिपाहट बढ़ जाए, एक मोटा होना प्रभाव निभाएं ; कतरनी की भूमिका में सिलिका नेटवर्क क्षतिग्रस्त हो जाता है, जिसके परिणामस्वरूप सिस्टम चिपचिपाहट में कमी आती है, निर्माण को सुविधाजनक बनाने के लिए थिक्सोट्रोपिक प्रभाव होता है। एक बार जब कतरनी बल हटा दिया जाता है, तो इस नेटवर्क संरचना को फिर से बनाया जा सकता है, जिससे इलाज की प्रक्रिया के दौरान चिपकने वाले को प्रभावी ढंग से गिरने से रोका जा सकता है।गेसीसिल द्वारा उत्पादित हाइड्रोफिलिक गेसीसिल ए-200 फ्यूम्ड सिलिका में अच्छा गाढ़ा करने वाले थिक्सोट्रोपिक और एंटी-सेटलिंग गुण होते हैं, और इसका व्यापक रूप से चिपकने वाले और सीलेंट, कोटिंग्स और पेंट, सिलिकॉन रबर और असंतृप्त रेजिन में उपयोग किया जाता है।

ग्राउट सीलर एक सजावटी सामग्री है जो सीधे टाइलों के बीच अंतराल में लागू होती है, क्योंकि उनका पालन किया जाता है, भयावह और गंदे काले टाइल सीम के मुद्दों को संबोधित करते हुए। यह पारंपरिक ग्राउट का एक उन्नत संस्करण है, जो रंगीन फिलर्स की तुलना में बेहतर सजावटी और व्यावहारिक लाभ प्रदान करता है। कच्चे माल में एपॉक्सी राल, इलाज एजेंटों, भराव, पिगमेंट और एडिटिव्स का एक समान मिश्रण होता है, जो एक सिरेमिक जैसी बनावट और अर्ध-तरल अवस्था को समृद्ध, प्राकृतिक और नाजुक रंगों के साथ पेश करता है। यह जलरोधक और मोल्ड-प्रतिरोधी है। ग्राउट सीलर की संरचना में, काफी अलग घनत्व वाले असंगत घटक होते हैं, जिससे भंडारण के दौरान अवसादन हो सकता है, जिससे सीलर के प्रदर्शन को प्रभावित किया जा सकता है। विशेष रूप से जब ऊर्ध्वाधर या ओवरहेड सतहों पर लागू होता है, तो सिस्टम को प्रवाह या ड्रिप नहीं करना चाहिए। आवेदन के दौरान, सामग्री को एक निश्चित स्तर की तरलता की आवश्यकता होती है और इसे अपने आकार को बनाए रखने के लिए बहुत जल्दी ठीक नहीं होना चाहिए। इन आवश्यकताओं को एक थिक्सोट्रोपिक एजेंट, फ्यूम्ड सिलिका के उपयोग की आवश्यकता होती है। फ्यूम्ड सिलिका में अपनी सतह पर सिलनॉल समूह होते हैं जो हाइड्रोजन बॉन्ड बनाते हैं, जिससे सिस्टम के भीतर तीन-आयामी नेटवर्क संरचना का निर्माण होता है। यह नेटवर्क सिस्टम की चिपचिपाहट को बढ़ाता है, लेकिन एक बार कतरनी बल लागू होने के बाद, संरचना बाधित हो जाती है, और चिपचिपाहट तेजी से कम हो जाती है। जब कतरनी बल को हटा दिया जाता है, तो त्रि-आयामी नेटवर्क सुधार, और चिपचिपाहट फिर से बढ़ जाती है। एपॉक्सी राल, जिसमें विभिन्न ध्रुवीय कार्यात्मक समूह शामिल हैं जैसे कि एपॉक्सी और हाइड्रॉक्सिल समूह, अकार्बनिक सतहों पर अच्छी wettability हैं, और एक निश्चित मात्रा में फ्यूम्ड सिलिका उत्कृष्ट थिक्सोट्रॉपी प्राप्त कर सकती है।  फ्यूम्ड सिलिका की इन विशेषताओं के कारण, यह ग्राउट सीलर में थिक्सोट्रोपिक प्रभाव को मोटा करने और प्रदान करने का काम करता है, प्रभावी रूप से आवेदन के दौरान प्रवाह, ड्रिप और पतन जैसी समस्याओं को हल करता है। अधिक जानकारी के लिए, www.geseesiltech.com पर हमारी वेबसाइट पर जाएं।

हाल के वर्षों में, कड़े पर्यावरण नियमन और स्वच्छ ईंधन की बढ़ती मांग ने ऑक्सीडेटिव डिसल्फराइजेशन (ODS) इसकी उच्च दक्षता और कम ऊर्जा खपत के कारण यह एक प्रमुख अनुसंधान केन्द्र है। धुँआदार सिलिकाअद्वितीय भौतिक-रासायनिक गुणों वाला एक उच्च-प्रदर्शन नैनोमटेरियल, ओडीएस में उत्प्रेरक समर्थन और सोखने वाले के रूप में बड़ी क्षमता दिखाता है। यह लेख हाल की प्रगति और भविष्य के रुझानों के साथ-साथ डीसल्फराइजेशन में फ्यूम्ड सिलिका के अनुप्रयोग की खोज करता है।1. फ्यूम्ड सिलिका प्रौद्योगिकी में हालिया विकास धुँआदार सिलिका का उत्पादन किसके माध्यम से किया जाता है? सिलिकॉन टेट्राक्लोराइड (SiCl₄) का उच्च तापमान हाइड्रोलिसिस, जिसके परिणामस्वरूप नैनोस्केल अनाकार सिलिका बनती है उच्च सतह क्षेत्र (100-400 m²/g), कम घनत्व, उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता, और ट्यूनेबल सतह गुणनैनो प्रौद्योगिकी में हाल की प्रगति ने इसके अनुप्रयोगों का विस्तार किया है उत्प्रेरण, कंपोजिट, ऊर्जा भंडारण, और पर्यावरण सुधार.उन्नत सतह संशोधनसिलेन युग्मन एजेंट और धातु ऑक्साइड कोटिंग्स हाइड्रॉक्सिल समूह घनत्व को बढ़ाते हैं, जिससे उत्प्रेरक सक्रिय साइटों के साथ बातचीत में सुधार होता है। उन्नत फैलावउन्नत संश्लेषण विधियां (जैसे, प्लाज्मा-सहायता प्राप्त प्रक्रियाएं) फैलाव को अनुकूलित करती हैं, जिससे फ्यूम्ड सिलिका तरल-चरण उत्प्रेरक प्रणालियों में अधिक स्थिर हो जाती है। हरित उत्पादनकुछ निर्माता पर्यावरणीय प्रभाव और लागत को कम करने के लिए कम कार्बन संश्लेषण विधियों को अपना रहे हैं। 2. ऑक्सीडेटिव डिसल्फराइजेशन में फ्यूम्ड सिलिका के अनुप्रयोगओडीएस ईंधन में सल्फर यौगिकों (जैसे, थायोफीन, बेंजोथियोफीन) को हल्की परिस्थितियों में सल्फोन/सल्फोक्साइड में परिवर्तित करता है, उसके बाद निष्कर्षण/अवशोषण करता है। फ्यूम्ड सिलिका निम्नलिखित तरीकों से योगदान देता है: उत्प्रेरक समर्थन इसका उच्च सतह क्षेत्र और प्रचुर मात्रा में सिलानॉल (Si-OH) समूह इसे एंकरिंग के लिए आदर्श बनाते हैं धातु ऑक्साइड (जैसे, TiO₂, MoO₃, WO₃) और हेटरोपॉलीएसिड (जैसे, फॉस्फोमोलिब्डिक एसिड):TiO₂/SiO₂ कंपोजिटफ्यूम्ड सिलिका पर समर्थित TiO₂ बेहतर चार्ज पृथक्करण और सक्रिय साइट एक्सपोजर के कारण बढ़ी हुई फोटोकैटलिटिक ODS दक्षता प्रदर्शित करता है। हेटेरोपॉलीएसिड-सिलिका संकरसंशोधित धुँआदार सिलिका पर फॉस्फोटुंगस्टिक एसिड (एचपीडब्ल्यू) को स्थिर करने से उत्प्रेरक स्थिरता और पुन: प्रयोज्यता में सुधार होता है, जबकि निक्षालन न्यूनतम होता है। सोखना संवर्धन ऑक्सीकरण के बाद, सल्फोन को अधिशोषण/निष्कर्षण के माध्यम से हटाया जाना चाहिए। धुएँदार सिलिका की छिद्रता और परिवर्तनीय सतह सक्षम बनाती है:क्रियाशील आणविक छलनी/सक्रिय कार्बन चयनात्मक सल्फर अवशोषण के लिए.आयोनिक तरल कंपोजिट एकीकृत निष्कर्षण-शोषण प्रणालियों के लिए। ऑक्सीडेंट स्थिरीकरण में H₂O₂/O₃-आधारित ODSधुँआदार सिलिका एक स्टेबलाइजर के रूप में कार्य करता है, जो तेजी से ऑक्सीडेंट के अपघटन को रोकता है और प्रतिक्रियाशीलता को लम्बा खींचता है।3.भविष्य के परिप्रेक्ष्यउन्नत उत्प्रेरक डिजाइनउच्च क्रियाशीलता और स्थायित्व के लिए धातु/हेटरोपॉलीएसिड लोडिंग को अनुकूलित करने के लिए सतह रसायन विज्ञान का सटीक नियंत्रण।हरित प्रक्रियाओं के साथ एकीकरणऊर्जा-कुशल डीसल्फराइजेशन के लिए धुएँदार सिलिका-आधारित प्रणालियों के साथ फोटोकैटेलिसिस, इलेक्ट्रोकैटेलिसिस या बायोकैटेलिसिस का संयोजन।स्केल-अप चुनौतियाँयद्यपि प्रयोगशाला स्तर पर परिणाम आशाजनक हैं, लेकिन औद्योगिक स्तर पर अपनाने के लिए लागत प्रभावी उत्पादन और दीर्घकालिक स्थिरता की आवश्यकता होती है।4. निष्कर्ष फ्यूम्ड सिलिका के ट्यूनेबल गुण इसे अगली पीढ़ी की ODS तकनीकों के लिए एक बहुमुखी सामग्री के रूप में स्थापित करते हैं। नैनोइंजीनियरिंग और उत्प्रेरक तंत्र पर निरंतर शोध कुशल, टिकाऊ डीसल्फराइजेशन समाधानों के विकास को बढ़ावा देगा, जो वैश्विक स्वच्छ ऊर्जा लक्ष्यों का समर्थन करेगा।