उच्च विशिष्ट सतह क्षेत्र: GESEESIL 200, एक हाइड्रोफिलिक फ्यूम्ड सिलिका 200 वर्ग मीटर/जी की एक विशिष्ट सतह क्षेत्र के साथ, प्रचुर मात्रा में सक्रिय साइटें प्रदान करता है, प्रभावी रूप से सक्रिय घटकों को फैलाता है और उत्प्रेरक की गतिविधि और चयनात्मकता को बढ़ाता है।
स्थिरता: यह उच्च तापमान और रासायनिक वातावरण के तहत उत्कृष्ट स्थिरता प्रदर्शित करता है, जिससे यह एक आदर्श उत्प्रेरक समर्थन बन जाता है।
समान फैलाव: Geseesil 200 सक्रिय घटकों (जैसे धातु नैनोकणों) के समान फैलाव को सुनिश्चित करता है, एग्लोमरेशन को रोकता है और उत्प्रेरक दक्षता में सुधार करता है।
बढ़ाया गतिविधि: उच्च फैलाव सक्रिय घटकों और अभिकारकों के बीच संपर्क क्षेत्र को बढ़ाता है, प्रतिक्रिया दरों को बढ़ाता है।
छिद्र आकार समायोजन: Geseesil 200 के छिद्र आकार और संरचना को संशोधित करके, अभिकारकों के प्रसार और उत्पादों के desorption को अनुकूलित किया जा सकता है, उत्प्रेरक दक्षता को बढ़ाया जा सकता है।
सतह संशोधन: हाइड्रोफिलिक सतह को रासायनिक रूप से विशिष्ट कार्यात्मक समूहों को पेश करने के लिए संशोधित किया जा सकता है, जिससे उत्प्रेरक प्रदर्शन में सुधार होता है।
पेटोकेमिकल उद्योग: दक्षता और उत्पाद चयनात्मकता में सुधार के लिए क्रैकिंग, हाइड्रोजनीकरण, डिहाइड्रोजनेशन और अन्य प्रतिक्रियाओं में उपयोग किया जाता है।
पर्यावरणीय उत्प्रेरक: निकास गैस उपचार (जैसे, वीओसी के उत्प्रेरक ऑक्सीकरण) और अपशिष्ट जल उपचार (जैसे, कार्बनिक प्रदूषकों का फोटोकैटलिटिक गिरावट) में लागू किया गया।
रासायनिक संश्लेषण: प्रतिक्रिया दरों और उत्पाद शुद्धता को बढ़ाने के लिए कार्बनिक संश्लेषण प्रतिक्रियाओं (जैसे, ऑक्सीकरण, कमी, पोलीमराइजेशन) में उपयोग किया जाता है।
यांत्रिक शक्ति: Geseesil 200 की उत्कृष्ट यांत्रिक शक्ति रिएक्टरों में उत्प्रेरक की स्थिरता सुनिश्चित करती है, उनके जीवनकाल का विस्तार करती है।
तापीय स्थिरता: उच्च तापमान प्रतिक्रिया वातावरण के लिए उपयुक्त, उत्प्रेरक गतिविधि को बनाए रखना।
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Geseesil 200, 200 की एक विशिष्ट सतह क्षेत्र के साथ एक हाइड्रोफिलिक फ्यूम्ड सिलिका, व्यापक रूप से उत्प्रेरक उद्योग में एक समर्थन के रूप में उपयोग किया जाता है, फैलाव में सुधार करने और प्रतिक्रिया की स्थिति को नियंत्रित करने के लिए। यह पेट्रोकेमिकल्स, पर्यावरणीय कटैलिसीस और रासायनिक संश्लेषण में व्यापक अनुप्रयोगों को पाता है, जो उत्प्रेरक प्रदर्शन और दक्षता को महत्वपूर्ण रूप से बढ़ाता है। अधिक जानें www.geseesiltech.com.